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超纯水设备去除哪些杂质

2016-05-04 11:16

超纯水,是一种纯度很高水,主要用于:集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿清洗、光刻掩模版制备和硅片氧化用水汽源等。此外,其他固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路、真空管等制作也都要使用超纯水。

超纯水中主要杂质:

①无机电离杂质,如Ca、Mg、Na、K、Fe2+、Fe3+、Mn、Al、HCO、CO、SO、Cl、NO、NO、SiO、PO等;②有机物,如烷基苯磺酸、油、有机铁、有机铝以及其他碳氢化合物等;

③颗粒,如尘埃、氧化铁、铝、胶体硅等;

④微生物,如细菌、浮游生物和藻类等;

⑤溶解气体,如N2、O2、CO2、H2S等。超纯水中电离杂质含量用水电阻率数值来衡量。理论上,纯水中只有H离子和OH离子参加导电。在25℃时超纯水电阻率为18.3(兆欧·厘米),一般约为15~18(兆欧·厘米)。

水中各种杂质,同时存在,因此超纯水设备在处理过程中,采用多种方式去除,先后经过了前置预处理、反渗透、超滤等过程,其间同时还加活性碳,灭菌等过程。

超纯水设备,在经过反渗透处理水,去除无机离子率能达到95%到98%,能满足一般实验用水,或饮用水标准。通过超滤水,无机离子去除率能达到99%以上。超纯水设备,经过数年努力,采用PP、AC、UF、RO、UV、DI、UP、UF、MF等纯化过程,使超纯水电阻率、总含碳量、微生物和无机离子离子,均达到领先水平。超纯水设备目前,被液相、气相、医院、高精型工厂等大量使用,并得到了产品质量肯定。


超纯水设备

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