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半导体清洗用超纯水设备工作原理有哪些

2016-03-30 09:38

超纯水设备在电镀行业、半导体清洗行业应用广泛,为了能够让超纯水设备满足更多用户的需求,莱特莱德西安水处理设备公司向您介绍超纯水设备在半导体清洗时应用的工作原理和超纯水设备的其他应用领域,帮助用户了解超纯水设备。

超纯水设备
超纯水设备

半导体清洗用超纯水设备工作原理

EDI装置将离子交换树脂充夹在阴/阳离子交换膜之间形成EDI单元。EDI工作原理如下图所示。EDI组件中将一定数量的EDI单元间用网状物隔开,形成浓水室。又在单元组两端设置阴/阳电极。在直流电的推动下,通过淡水室水流中的阴阳离子分别穿过阴阳离子交换膜进入到浓水室而在淡水室中去除。而通过浓水室的水将离子带出系统,成为浓水。EDI设备一般以反渗透(RO)纯水作为EDI给水。RO纯水电导率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI纯水电阻率可以高达18MΩ.cm(25℃),但是根据去离子水用途和系统配置设置,EDI纯水适用于制备电阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的纯水。

半导体清洗用超纯水设备的应用领域

电解电容器生产铝箔及工作件的清洗。

电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水。

黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水。

生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液。

晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片。

集成电路生产中高纯水清洗硅片。

半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水。

半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗。

高品质显像管、萤光粉生产。汽车、家电表面抛光处。

超纯水设备
超纯水设备

莱特莱德专注超纯水设备的研究与发展,保证用水的安全可靠,保证水质。专业的技术团队,生产的超纯水设备不断的满足用户的需求,在水处理行业家喻户晓,出水符合半导体清洗行业的用水标准。

经典案例介绍

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