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100t/h半导体硅晶片用超纯水设备

2018-11-23 11:03

(一)、100t/h半导体硅晶片用超纯水设备的概述

在石英、玛瑙、燧石和普通的滩石中就可以发现硅元素。硅是建筑材料水泥、砖、和玻璃中的主要成分,也是大多数半导体和微电子芯片的主要原料。制造半导体前,必须将硅转换为晶圆片。单晶硅是原子以三维空间模式周期形成的固体,这种模式贯穿整个材料。多晶硅是很多具有不同晶向的小单晶体单独形成的,不能用来做半导体电路。莱特莱德西安水处理设备公司生产的半导体硅晶片用超纯水设备和防静电显像管生产超纯水设备采用国际先进的水处理工程技术,产品质量与性能都是该行业中一流的,产品价格符合行业要求。
 

超纯水设备
超纯水设备

(二)、100t/h半导体硅晶片用超纯水设备的工作原理

1、水进入EDI系统,主要部分流入树脂/膜内部,而另一部分沿模板外侧流动,以洗去透出膜外的离子。

2、树脂截留水中的溶存离子。

3、被截留的离子在电极作用下,阴离子向正极方向运动,阳离子向负极方向运动。

4、阳离子透过阳离子膜,排出树脂/膜之外。

5、阴离子透过阴离子膜,排出树脂/膜之外。

6、浓缩了的离子从废水流路中排出。

7、无离子水从树脂/膜内流出。
 

半导体硅晶片用超纯水设备
半导体硅晶片用超纯水设备

(三)、100t/h半导体硅晶片用超纯水设备的工艺流程

1、原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透设备→中间水箱→中间水泵→离子交换器→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点

2、原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→第一级反渗透→PH调节→中间水箱→第二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点

3、原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点
 

100t/h半导体硅晶片用超纯水设备
100t/h半导体硅晶片用超纯水设备

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