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半导体清洗用超纯水设备

2018-11-23 10:40

一、半导体清洗用超纯水设备概述

我国电子行业将电子级水质分为五个标准,分别是18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm。半导体清洗用超纯水设备采用反渗透技术和EDI技术相结合制水工艺,有效去除原水中99.9%以上的溶解性盐类,出水电阻率可以达到18兆欧以上,完全满足半导体清洗用水标准。

二、半导体清洗用超纯水设备工艺流程

典型电子级超纯水制备工艺:

预处理—反渗透—水箱—阳床—阴床—混合床—纯水箱—纯水泵—紫外线杀菌器—精制混床—微孔膜过滤器—用水对象

预处理—一级反渗透—pH调节装置—中间水箱—二级反渗透—纯水箱—纯水泵—紫外线杀菌器—微孔膜过滤器—用水对象

预处理—二级反渗透—中间水箱—水泵—EDI装置—纯水箱—纯水泵—紫外线杀菌器—微孔膜过滤器—用水对象(新工艺)

预处理—二级反渗透—中间水箱—水泵—EDI装置—纯水箱—纯水泵—紫外线杀菌器—抛光混床—TOC分解器—微孔膜过滤器—用水对象(新工艺)

超纯水设备

三、半导体清洗用超纯水设备特点

1、整体化程度高,易于扩展,增加膜数量即可增加处理量。

2、自动化程度高,遇故障立即自停,具有自动保护功能。

3、膜组件为复合膜卷制而成,表现出更高的溶质分离率和透过速率。

4、能耗低,水利用率高,运行成本低。

5、结构合理,占地面积少。

6、先进的膜保护系统,在设备关机,淡化水可自动将膜面污染物冲洗干净,延长膜寿命。

7、系统无易损部件,无须大量维修,运行长期有效。

8、设备设计有膜清洗系统用阻垢系统。

以上是半导体清洗用超纯水设备的简单介绍。莱特莱德西安水处理设备厂家是一家专业从事水处理设备及工程研发、设计、生产及销售的实业型高科技企业。公司以雄厚的技术力量为后盾,为客户提供先进的科学技术、完整的设计方案、严格的质量控制、专业的安装调试以及周到细致的售后服务,并为客户设计、制造各种非标、特殊规格的产品,全方位满足客户对产品的不同需求。

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